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JIS K 0164:2023
表面化学分析―二次イオン質量分析法―シリコン内のボロンの深さ方向分布測定方法
Surface chemical analysis -- Secondary-ion mass spectrometry -- Method for depth profiling of boron in silicon

規格概要
磁気セクター型又は四重極型の二次イオン質量分析法を用いたシリコン内のボロンの深さ方向分布測定の方法,及び触針式段差計又は光干渉計を用いた深さ軸校正の方法について規定。
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公示の種類 改正
履歴 2010-04-20 制定
2015-10-20 確認
2020-10-20 確認
2023-02-20 改正
原案作成団体 一般財団法人 日本規格協会
一般社団法人 表面化学分析技術国際標準化委員会
ICS 71.040.40
対応国際規格 ISO 17560:2014 (IDT)
引用JIS規格 K0143
引用国際規格
ハンドブック 化学分析:2025
備考
正誤票・訂正票
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