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JIS K 0148:2005
表面化学分析-全反射蛍光X線分析法(TXRF)によるシリコンウェーハ表面汚染元素の定量方法
Surface chemical analysis -- Determination of surface elemental contamination on silicon wafers by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

発行年月日: 2005-03-20
確認年月日: 2024-10-21
状態: 有効

プレビュー
和文(PDF)  英訳(PDF)
規格概要
シリコン鏡面ウェーハ又はエピタキシャルウェーハの表面原子濃度を,全反射蛍光X線分析法(TXRF)によって定量する方法について規定。
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公示の種類 確認
履歴 2005-03-20 制定
2009-10-01 確認
2014-10-20 確認
2019-10-21 確認
2024-10-21 確認
原案作成団体 一般財団法人 日本規格協会
一般社団法人 表面化学分析技術国際標準化委員会
ICS 71.040.40
対応国際規格 ISO 14706:2000 (IDT)
引用JIS規格 B9920 ,  Z8402-2
引用国際規格
ハンドブック
備考
正誤票・訂正票 リンク 正誤票 (200510)  
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