品質工学応用講座
半導体製造の技術開発
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編集主査 坂野 進
図書
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本体価格:3,786 円
ISBN:9784542511101
発売年月日:1994-10-28
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A5判・348頁
商品コード:351110【概要】
品質工学による技術開発の方法論の半導体製造への適用について、その基本的な考え方から設計・開発段階、製造付帯設備、製造段階、
保全段階における技術開発を門外不出と考えられる貴重なデータと豊富な事例によって詳解。【目次】
1.半導体の技術開発
2.半導体産業への品質工学の導入
3.半導体の関連技術と品質工学
4.プロセスデバイス・シュミレーションによるMOSトランジスタの安定性設計
5.安定なMOSトランジスタの設計
6.IC微細加工へのパラメータ設計の適用
7.レジストパターニング性能の向上
8.レジスト塗布工程における塗布条件の最適化
9.シリコン窒化膜の残留応力の低減
10.受光素子における電極形成プロセスの最適化
11.液晶パネルの騒動電極最適化による電気特性シフトの改善
12.ワイヤボンディング工程における金ボール強度の安定化
13.ワイヤボンドの引張強度の改善
14.半導体製造における計測機器の校正とトレーサビリティ
15.半導体パターニング誤差評価の実験計画の考え方
16.粒径測定方法のパラメ-タ設計
17.JIS Z 9090にもとづく微風速計の校正
18.クリーンルーム内の気流、粒子分布の精密累積法による解析
19.搬送装置の低発じん化設計
20.半導体製造関連における損失関数
21.半導体製造の前処理工程におけるフィードバック制御
22.ホトリソ工程バッチ処理のフィードバック制御の最適化
23.ゲート形成プロセスにおけるゲート幅寸法精度の向上
24.LSI製造装置におけるじん埃管理
25.保全システムの設計と管理
26.製造装置などの保全周期の最適化