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品質工学応用講座

半導体製造の技術開発

  • 編集主査 坂野 進

    図書

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    4,164 円(税込)

    本体価格:3,786 円

    ISBN:9784542511101

    発売年月日:1994-10-28

  • A5判・348頁
    商品コード:351110
    【概要】
    品質工学による技術開発の方法論の半導体製造への適用について、その基本的な考え方から設計・開発段階、製造付帯設備、製造段階、
    保全段階における技術開発を門外不出と考えられる貴重なデータと豊富な事例によって詳解。
    【目次】
    1.半導体の技術開発
    2.半導体産業への品質工学の導入
    3.半導体の関連技術と品質工学
    4.プロセスデバイス・シュミレーションによるMOSトランジスタの安定性設計
    5.安定なMOSトランジスタの設計
    6.IC微細加工へのパラメータ設計の適用
    7.レジストパターニング性能の向上
    8.レジスト塗布工程における塗布条件の最適化
    9.シリコン窒化膜の残留応力の低減
    10.受光素子における電極形成プロセスの最適化
    11.液晶パネルの騒動電極最適化による電気特性シフトの改善
    12.ワイヤボンディング工程における金ボール強度の安定化
    13.ワイヤボンドの引張強度の改善
    14.半導体製造における計測機器の校正とトレーサビリティ
    15.半導体パターニング誤差評価の実験計画の考え方
    16.粒径測定方法のパラメ-タ設計
    17.JIS Z 9090にもとづく微風速計の校正
    18.クリーンルーム内の気流、粒子分布の精密累積法による解析
    19.搬送装置の低発じん化設計
    20.半導体製造関連における損失関数
    21.半導体製造の前処理工程におけるフィードバック制御
    22.ホトリソ工程バッチ処理のフィードバック制御の最適化
    23.ゲート形成プロセスにおけるゲート幅寸法精度の向上
    24.LSI製造装置におけるじん埃管理
    25.保全システムの設計と管理
    26.製造装置などの保全周期の最適化

     

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