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JIS H 0615:2021
フォトルミネッセンスによるシリコン結晶中の不純物濃度測定方法
Test method for determination of impurity concentrations in silicon crystal by photoluminescence spectroscopy

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和文(PDF)
規格概要
フォトルミネッセンス法によるシリコン単結晶中の不純物濃度の測定法及び多結晶シリコンの品質評価としての不純物濃度の測定法について規定。
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公示の種類 改正
履歴 1996-01-01 制定
2001-09-20 確認
2006-01-20 確認
2010-10-01 確認
2015-10-20 確認
2020-10-20 確認
2021-09-21 改正
原案作成団体 一般財団法人 日本規格協会
一般社団法人 新金属協会
ICS 73.080
対応国際規格
引用JIS規格 H0602 ,  K8541 ,  K8819
引用国際規格
ハンドブック
備考
正誤票・訂正票
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