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JIS H 0614:1996
シリコン鏡面ウェーハの外観検査
Visual inspection for silicon wafers with specular surfaces

発行年月日: 1996-01-31
確認年月日: 2020-10-20
状態: 有効

規格概要
半導体素子を形成することを目的としたシリコンウェーハをケミカル・メカニカルポリッシュによって鏡面加工仕上げしたウェーハの表面(鏡面及び裏面)の目視による外観検査について規定。
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公示の種類 確認
履歴 1978-01-01 制定
1983-10-01 確認
1988-12-01 確認
1993-12-01 確認
1996-01-01 改正
2001-09-20 確認
2006-01-20 確認
2010-10-01 確認
2015-10-20 確認
2020-10-20 確認
原案作成団体 一般社団法人 新金属協会
ICS 29.045
77.120.99
対応国際規格
引用JIS規格 B9920 ,  C7612
引用国際規格
ハンドブック
備考
正誤票・訂正票
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