JIS H 0614:1996
シリコン鏡面ウェーハの外観検査
Visual inspection for silicon wafers with specular surfaces
発行年月日:
1996-01-31
確認年月日:
2020-10-20
状態:
有効
和文 8ページ
1,100 円(税込) 本体価格:1,000円
- 規格概要
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半導体素子を形成することを目的としたシリコンウェーハをケミカル・メカニカルポリッシュによって鏡面加工仕上げしたウェーハの表面(鏡面及び裏面)の目視による外観検査について規定。全文を表示する
公示の種類 | 確認 |
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履歴 |
1978-01-01 制定 1983-10-01 確認 1988-12-01 確認 1993-12-01 確認 1996-01-01 改正 2001-09-20 確認 2006-01-20 確認 2010-10-01 確認 2015-10-20 確認 2020-10-20 確認
履歴に関する説明JISは、産業標準化法に基づき、主務大臣が必要と認め制定する国家規格です。JISの制定、確認又は改正の日から5年を経過する日までに、それがなお適正であるか見直しが行われ、主務大臣が確認、改正又は廃止を行います。
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原案作成団体 |
一般社団法人 新金属協会 |
ICS |
29.045 77.120.99 |
対応国際規格 |
同等性に関する説明
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引用JIS規格 | B9920 , C7612 |
引用国際規格 | |
ハンドブック | |
備考 | |
正誤票・訂正票 |