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ISO 17331:2004
・表面化学分析-シリコンウェーハの基礎となる標準物質の表面からの元素の収集のための化学的方法及び全反射蛍光X線(TXRF)分光分析法によるその定量
Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of silicon-wafer working reference materials and their determination by total-reflection X-ray fluorescence (TXRF) spectroscopy

発行年月日: 2004-05-18
状態: 有効
邦訳版: 無

TC ISO/TC 201
ICS 71.040.40
対応JIS規格 JIS K 0160:2009 (IDT)
備考
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